Werner Wegscheider: Katalogdaten im Frühjahrssemester 2019 |
| Name | Herr Prof. Dr. Werner Wegscheider |
| Lehrgebiet | Festkörperphysik |
| Adresse | Laboratorium für Festkörperphysik ETH Zürich, HPF E 7 Otto-Stern-Weg 1 8093 Zürich SWITZERLAND |
| Telefon | +41 44 633 77 40 |
| werner.wegscheider@phys.ethz.ch | |
| URL | https://mbe.ethz.ch |
| Departement | Physik |
| Beziehung | Ordentlicher Professor |
| Nummer | Titel | ECTS | Umfang | Dozierende | |
|---|---|---|---|---|---|
| 402-0034-10L | Physik II | 4 KP | 2V + 2U | W. Wegscheider | |
| Kurzbeschreibung | Zweisemestrige Einfuehrung in die Grundlagen und Denkweise der Physik: Elektrizitaet und Magnetismus, Licht, Wellen, Quantenphysik, Festkoerperphysik, Halbleiter. Vertiefung in ausgewaehlte Themen der modernen Physik von grosser technologischer oder industrieller Bedeutung. | ||||
| Lernziel | Foerderung des wissenschaftlichen Denkens. Verstaendnis der physikalischen Konzepte und Phaenomene, welche der modernen Technik zugrunde liegen. Ueberblick ueber die Themen der klassischen und modernen Physik. | ||||
| Inhalt | Einfuehrung in die Quantenphysik, Absorption und Emission, Festkoerper, Halbleiter. | ||||
| Skript | Notizen zum Unterricht werden verteilt. | ||||
| Literatur | Paul A. Tipler, Gene Mosca, Michael Basler und Renate Dohmen Physik: für Wissenschaftler und Ingenieure Spektrum Akademischer Verlag, 2009, 1636 Seiten, ca. 80 Euro. Paul A. Tipler, Ralph A. Llewellyn Moderne Physik Oldenbourg Wissenschaftsverlag, 2009, 982 Seiten, ca. 75 Euro. | ||||
| Voraussetzungen / Besonderes | Testatbedingung: Keine | ||||
| 402-0318-00L | Semiconductor Materials: Characterization, Processing and Devices | 6 KP | 2V + 1U | S. Schön, W. Wegscheider | |
| Kurzbeschreibung | This course gives an introduction into the fundamentals of semiconductor materials. The main focus in this semester is on state-of-the-art characterization, semiconductor processing and devices. | ||||
| Lernziel | Basic knowledge of semiconductor physics and technology. Application of this knowledge for state-of-the-art semiconductor device processing | ||||
| Inhalt | 1. Material characterization: structural and chemical methods 1.1 X-ray diffraction methods (Powder diffraction, HRXRD, XRR, RSM) 1.2 Electron microscopy Methods (SEM, EDX, TEM, STEM, EELS) 1.3 SIMS, RBS 2. Material characterization: electronic methods 2.1 van der Pauw techniquel2.2 Floating zone method 2.2 Hall effect 2.3 Cyclotron resonance spectroscopy 2.4. Quantum Hall effect 3. Material characterization: Optical methods 3.1 Absorption methods 3.2 Photoluminescence methods 3.3 FTIR, Raman spectroscopy 4. Semiconductor processing: lithography 4.1 Optical lithography methods 4.2 Electron beam lithography 4.3 FIB lithography 4.4 Scanning probe lithography 4.5 Direct growth methods (CEO, Nanowires) 5. Semiconductor processing: structuring of layers and devices 5.1 Wet etching methods 5.2 Dry etching methods (RIE, ICP, ion milling) 5.3 Physical vapor depositon methods (thermal, e-beam, sputtering) 5.4 Chemical vapor Deposition methods (PECVD, LPCVD, ALD) 5.5 Cleanroom basics & tour 6. Semiconductor devices 6.1 Semiconductor lasers 6.2 LED & detectors 6.3 Solar cells 6.4 Transistors (FET, HBT, HEMT) | ||||
| Skript | https://moodle-app2.let.ethz.ch/course/view.php?id=10464 | ||||
| Voraussetzungen / Besonderes | The "compulsory performance element" of this lecture is a short presentation of a research paper complementing the lecture topics. Several topics and corresponding papers will be offered on the moodle page of this lecture. | ||||