151-0621-00L Microsystems I: Process Technology and Integration
| Semester | Herbstsemester 2021 |
| Dozierende | M. Haluska, C. Hierold |
| Periodizität | jährlich wiederkehrende Veranstaltung |
| Lehrsprache | Englisch |
Lehrveranstaltungen
| Nummer | Titel | Umfang | Dozierende | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 151-0621-00 V | Microsystems I: Process Technology and Integration The lecture starts in the second week of the Semester. | 3 Std. |
| C. Hierold, M. Haluska | |||
| 151-0621-00 U | Microsystems I: Process Technology and Integration The exercise starts in the third week of the Semester. | 3 Std. |
| M. Haluska |
Katalogdaten
| Kurzbeschreibung | Die Stundenten werden in die Grundlagen der Mikrosystemtechnik, der Halbleiterphysik und der Halbleiterprozesstechnologie eingeführt und erfahren, wie die Herstellung von Mikrosystemen in einer Serie von genau definierten Prozessschritten erfolgt (Gesamtprozess und Prozessablauf). |
| Lernziel | Die Stundenten sind mit den Grundlagen der Mikrosystemtechnik und der Prozesstechnologie für Halbleiter vertraut und verstehen die Herstellung von Mikrosystemen durch die Kombination von Einzelprozesschritten ( = Gesamtprozess oder Prozessablauf). |
| Inhalt | - Einführung in die Mikrosystemtechnik (MST) und in mikroelektromechanische Systeme (MEMS) - Grundlegende Siliziumtechnologie: thermische Oxidation, Fotolithografie und Ätztechnik, Diffusion und Ionenimplantation, Dünnschichttechnik. - Besondere Mikrosystemtechnologien: Volumen- und Oberflächenmikromechanik, Trocken- und Nassätzen, isotropisches und anisotropisches Ätzen, Herstellung von Balken und Membranen, Waferbonden, mechanische Eigenschaften von Dünnschichten. Die Anwendung ausgewählter Technologien wird anhand von Fallstudien nachgewiesen. |
| Skript | Handouts (online erhältlich) |
| Literatur | - S.M. Sze: Semiconductor Devices, Physics and Technology - W. Menz, J. Mohr, O.Paul: Microsystem Technology - Hong Xiao: Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology - M. J. Madou: Fundamentals of Microfabrication and Nanotechnology, 3rd ed. - T. M. Adams, R. A. Layton: Introductory MEMS, Fabrication and Applications |
| Voraussetzungen / Besonderes | Voraussetzung: Physik I und II |
Leistungskontrolle
| Information zur Leistungskontrolle (gültig bis die Lerneinheit neu gelesen wird) | |
Leistungskontrolle als Semesterkurs | |
| ECTS Kreditpunkte | 6 KP |
| Prüfende | C. Hierold, M. Haluska |
| Form | Sessionsprüfung |
| Prüfungssprache | Englisch |
| Repetition | Die Leistungskontrolle wird in jeder Session angeboten. Die Repetition ist ohne erneute Belegung der Lerneinheit möglich. |
| Prüfungsmodus | mündlich 20 Minuten |
| Zusatzinformation zum Prüfungsmodus | Students registered for Microsystems I: Process Technology and Integration (151-0621-00) (MS I) course can voluntary participate in an interim examination which would count only as a bonus to the final grade of the MSI oral examination. This interim exam is written and graded and will contain assignments/problems from the selected parts of MSI lectures and tutorials presented until the day of the examination. Obtaining 80-100% of points at the interim exam improves the student’s grade at the final oral exam by max. 0.25 grades. The maximum grade (6.0) can also be achieved exclusively by the oral exam performance itself without resorting to the bonus from the interim exam. The interim exam will take 1 hour. The date and time of the interim exam will be noticed to students by the lecturer. No auxiliary means are allowed. Any behavior during the exam which violates the ETH ethical codex will result in both the loss of bonus points but also the application of standard disciplinary measures. |
| Diese Angaben können noch zu Semesterbeginn aktualisiert werden; verbindlich sind die Angaben auf dem Prüfungsplan. | |
Lernmaterialien
| Keine öffentlichen Lernmaterialien verfügbar. | |
| Es werden nur die öffentlichen Lernmaterialien aufgeführt. |
Gruppen
| Keine Informationen zu Gruppen vorhanden. |
Einschränkungen
| Keine zusätzlichen Belegungseinschränkungen vorhanden. |
